ISSN   1004-0595

CN  62-1224/O4

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磁场在直流三极溅射沉积TiC中的应用

磁场在直流三极溅射沉积TiC中的应用[J]. 摩擦学学报, 1983, 3(3).
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磁场在直流三极溅射沉积TiC中的应用

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  • 摘要: 作者从电磁学基本理论出发,阐明了正交磁场对提高直流三极溅射沉积率的工作原理。并介绍了正交磁场的施加方法和DMZ-450型正交电磁场直流三极溅射炉的特性,它所沉积的TiC涂层质量及其初步的应用效果。
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