ISSN   1004-0595

CN  62-1224/O4

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工艺因素对离子束增强沉积氮化硅薄膜组成与结构的影响

Effect of Processing Variables on the Composition and Microstructure of lon Beam Enhanced Deposition SisN4 Film

  • 摘要: 本世纪80年代以来,利用各种表面技术陶瓷材料涂覆于金属零件表面的研究发展很快,离子束增强沉积技术以其突出的优点更受到重视,利用这种技术合成陶瓷薄膜是一种新的物理气相沉积方法,而沉积薄膜的质量,性能和成膜速度都会受到工艺因素的影响,由于氮化硅陶瓷的硬度高,韧性和高温稳定性都比较好,是一种相当理想的耐磨材料,且其还有一定的自润滑性,因此,着重研究了氮离子束流和束压,氮离子与硅原子在基片上的达比,以及不

     

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