ISSN   1004-0595

CN  62-1224/O4

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离子注入对SiO2表面非晶碳薄膜的化学状态及摩擦学性能的影响

离子注入对SiO2表面非晶碳薄膜的化学状态及摩擦学性能的影响[J]. 摩擦学学报, 2001, 21(1): 6-9.
引用本文: 离子注入对SiO2表面非晶碳薄膜的化学状态及摩擦学性能的影响[J]. 摩擦学学报, 2001, 21(1): 6-9.
shu
Effect of Ion Implantation on the Interface Chemical States a nd Tribological Behavior of Amorphous Carbon Film on SiO2 Substrate[J]. TRIBOLOGY, 2001, 21(1): 6-9.
Citation: Effect of Ion Implantation on the Interface Chemical States a nd Tribological Behavior of Amorphous Carbon Film on SiO2 Substrate[J]. TRIBOLOGY, 2001, 21(1): 6-9.
shu

离子注入对SiO2表面非晶碳薄膜的化学状态及摩擦学性能的影响

基金项目: 

国家自然科学基金(59702001).

Effect of Ion Implantation on the Interface Chemical States a nd Tribological Behavior of Amorphous Carbon Film on SiO2 Substrate

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  • 修回日期:  2000-03-13

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